Infineon und Micron wollen zusammen die Entwicklung des 0,07 Mikron-Verfahrens vorantreiben. Zu diesem Zweck wollen die beiden Unternehmen einen neuartigen Fluor-Laser mit einer Wellenlänge von 157 Nanometern im Lithografie-Verfahren einsetzen. Die bisher eingesetzten Krypton-Fluroid-Laser oder Argon-Fluorid-Laser eignen sich aufgrund ihrer Wellenlänge von 248 beziehungsweise 193 Nanometern nicht für Chips mit einer Strukturgröße von weniger als 0,09 Mikrometern. Die ersten Chips mit einer Strukturbreite von 0,07 Mikrometer sollen 2006 in Serie gehen.