Intel hat nach eigenen Angaben ein neues Prozessor-Fertigungsverfahren entwickelt, das die Akkulaufzeit von mobilen Geräten verlängern soll. Aus der Produktion mit der 65nm(Nanometer)-Methode sollen Chips für mobile Plattformen mit kleinem Formfaktor kommen. Möglich sei der Einsatz bei Geräten vom Handy bis zum Laptop, so Intel-Sprecher Martin Strobel. Anfang 2006 werden die Mikroprozessoren laut Intel zur Verfügung stehen.

Das 65nm-Verfahren soll gegenüber dem derzeit üblichen 90nm-Verfahren deutliche Vorteile beim Stromverbrauch und der Performance aufweisen. Bei dem neuen Verfahren haben die Entwickler eine Reihe Modifikationen am Aufbau des Transistors vorgenommen. Der Energieverbrauch soll reduziert werden, indem die drei Hauptquellen von Leckströmen, Sub-Threshold-Leakage, Junction-Leakage und Gate-Oxid Leakage, verringert werden. Bei mobilen, akkubetriebenen Geräten treten selbst im Ruhezustand Leckströme auf. "Die Verlustleistung bei den Testchips war tausendmal geringer als bei dem bisherigen Standardverfahren", sagt Strobel.

"Auf manchen Chips stecken über eine Milliarde Transistoren. Angesichts dieser hohen Zahl wird deutlich, dass sich die Verbesserung der einzelnen Transistoren zu enormen Vorteilen für den gesamten Chip addieren", erklärt Mark Bohr, Leiter des Bereichs Prozessarchitektur bei Intel. Durch den Einsatz des 65nm-Verfahrens bei der Chipherstellung kann die Anzahl der Transistoren auf einem Prozessor im Vergleich zur 90nm-Technologie verdoppelt werden.

Die Herstellungskosten fallen um etwa zwei Prozent höher aus. Die Transistoren nach dem 65nm-Verfahren sollen die kleinsten und leistungsstärksten CMOS (komplementäre Metalloxid-Halbleiter)-Transistoren in der Massenproduktion sein. Sie haben eine Gate-Länge von 35nm, die modernsten Transistoren, die in den Pentium 4 Prozessoren verwendet werden haben eine Gate-Länge von 50nm.